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【半導体】DRAMのNanya Tech、26年設備投資を34％増額　新工場には4年で1兆6636億円
2026-08-06 12:01:29
DRAMの台湾Nanya Technology（南亜科）は2026年8月5日、520億NTドル（1NTドル＝約4.8円）としていた今年の設備投資を、34%増額して697億NTドルにすると表明した。また、5A新工場に対する投資を、今年から2029年までの4年間で最高3466億NTドルにすることを決め、公表した。


26年の設備投資を上積みしたことについてNanya Technologyは、5A新工場の建設加速、10nm（ナノメートル）プロセス技術の開発、一部設備の前払金に充てるためとした。

5A新工場については、第1段階の生産能力を単月3万5900枚に引き上げるとした。台湾の大手紙『経済日報』（8月6日付）によると、Nanya Technologyは5A新工場に極端紫外線リソグラフィ（EUV）露光装置を導入、次世代DRAMの重要な生産拠点にする予定。また、生産能力については、2027年下半期の量産化、2029年に単月3万5900枚、最終的には同4万5000枚を目標にしている。

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